全新多段控温管式炉厂家 真空管式炉

卧式管道加热器
一、应用领域：
　　 空气加热器主要是用来将所需要的空气流从初始温度加热到所需要的空气温度，可达850℃。已被广泛的应用到航空航天、兵器工业、化工工业和高等院校等许多科研生产试验室。特别适合于自动控温和大流量高温联合系统和附件试验。空气电加热器使用的范围宽：可以对任何气体加热，产生的热空气干燥无水份、不导电、不燃烧、不爆炸、无化学腐蚀性、无污染、安全可靠、被加热空间升温快（可控）。
二、技术特点：
　　 1、能使空气加热到很高的的温度，可达850℃，壳体温度只有50℃左右。
　　 2、效率高：可达0.9以上。
　　 3、升温和降温速率块，可达10℃/S，调节快而稳定。不会出现所控空气温度**前和滞后现象而使温度控制漂移不定，很适合自动控制。
　　 4、机械性能好：因为它的发热体为特制合金材料，所以在高压空气流的冲击下，它比任何发热体的机械性能和强度都好，这对于需要长时间连续不断对空气加温的系统和附件试验更具有优越性。
　　 5、在不违反使用规程时，经久耐用，使用寿命长达十年。
　　 6、空气洁净，体积小。
　　 7、可根据用户的需要，设计多类型的空气电加热器。
三、规格型号：
　　 单台功率从2KW～10000KW系列
　　 （本产品可以更具客户要求定做，提供图纸，电压，功率，尺寸）

升温速率 ≤30℃/min（上限）
300℃以内：≤3-8℃/min，300℃以上：≤8-12℃/min（建议）
降温速率 800℃以上≤10℃/min
测温传感器 S型热电偶0.45mm国标，背面正中间
加热元件 1400型硅碳棒
炉 膛 1600型氧化铝多晶纤维板，收缩率小，导热系数低，保温效果好，耐用节能
控温仪表 AI-518P AI-518P 7英寸触摸屏 7英寸触摸屏
模糊PID控制和自整定调节功能
30段可编程控制，控温精度±1℃
承压说明 正压 0.02MPa，负压 -0.04MPa
真空压力表 日本进口 SMC数显 -0.1至0.1MPa
气体通路 标配一路
浮子流量计 量程 3-30L/min
选配机械泵 VP-3 VP-4 VP-4
选配水冷机 CW-3000
安 全防护 **温报警、断偶提示、过流保护、漏电保护
升级服务 控温仪表升级为欧陆仪表，控温精度可提升至±0.1℃
若需通入多路气体，请与业务人员沟通。
随机资料 使用说明书1份、保修证书1份
免费服务 免费送货(不含卸货)；免费终身技术支持
质 保 期 12个月，易损件除外（如加热元件、密封圈等）

1700℃管式炉Φ60/80
窗体底端
设备名称 真空管式炉（封闭式）
型 号 TF1700-60 TF1700-60II TF1700-80 TF1700-80II
基本参数 电源电压 AC 220V,50/60Hz AC 220V,50/60Hz AC 220V,50/60Hz
外形尺寸
设备重量 175Kg 175Kg
加热系统 加热功率 4Kw 4Kw 8Kw
加 热 区 300mm 300mm 300+300mm
恒 温 区 120mm（±1.5℃） 120mm（±1.5℃）
加热区数 单温区 单温区 双温区
极限温度 1700℃
使用温度 ≤1600℃
升温速率 ≤20℃/min（上限）
1000℃以内：≤10℃/min，1000℃以上：≤5℃/min（建议）
降温速率 1000℃以上≤10℃/min
测温传感器 B型热电偶 0.5mm国标
加热元件 1800型硅钼棒
炉 膛 1800型氧化铝板
收缩率小，导热系数低，保温效果好，耐用节能
控温仪表 厦门宇电 AI系列仪表，模糊PID控制和自整定调节功能
30段可编程控制，控温精度±1℃
真空系统 极限真空度 若选配我司高真空系统，可达1.33*10-4Pa（空炉冷态）
炉管及尺寸 刚玉管，60*1000mm 刚玉管，80*1000mm 刚玉管，80*1200mm
密度大，热震性好，耐酸碱，耐冲刷
隔热管堵 2只，氧化铝材质
标准法兰 Φ60，一套 Φ80，一套
硅胶密封圈 内径58*5.3mm，4只 外径80*5.7mm，4只
真空压力表 -0.1至0.15MPa
安 全防护 **温报警、断偶提示、过流保护、漏电保护
升级服务 控温仪表升级为欧陆仪表，控温精度可提升至±0.1℃
随机资料 使用说明书1份、保修证书1份
免费服务 免费送货(不含卸货)；免费终身技术支持
质 保 期 12个月，易损件除外（如炉管、密封圈等）

PECVD系统 等离子体化学气相沉积系统
窗体底端
PECVD系统
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法。
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
系统选型
项 目 推荐选型
管式加热炉体
石英反应腔室 根据需求选择不同直径的石英管作为反应室。有Φ40，Φ60，Φ80，Φ100，Φ120，Φ150等规格可选。
真空系统 根据需求选择不同真空效果的真空系统。有DZK10-1（极限真空0.1Pa），GZK10-3（极限真空0.001Pa），以及进口高真空机组（极限真空0.0001Pa）供选择。
质子流量供气系统 根据需求选择多路质子流量供气系统。有两路GQ-2Z，三路GQ-2Z，四路GQ-2Z，五路GQ-2Z或更多路供选择。
射频等离子源 根据需求选择强度不同的射频电源。有DLZ300（300W），DLZ500（500W）或更大功率的射频电源供选择。
常见PECVD系统组合 1. 1200度60滑轨式微型管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，300W射频电源
MXG1200-60S-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ300
2. 1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
3. 1200度60双温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
MXG1200-60II-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
4. 1200度60三温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
MXG1200-60III-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
5. 1200度60微型预热炉，1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
MXG1200-60S，MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500